HAYASHI REPIC

Xenocs

X線デリバリーシステム

型式 / 型番:GeniX 3D Cu High Fluxなど

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概説

N-4 X線デリバリーシステム

微小焦点シールド管のX線ビームデリバリー装置は、環境に優しいハウジングと低コスト化の中で極めて有益な高フラックスを与えることを実現し、標準X線器具になっています。

X線菅とミラーを組み合わせた製品です。理想的な高輝度が簡単なネジ調整で得られるようになっています。)

性能のさらなるステップ

GeniX 3Dは使用と統合の容易さに加え、性能の面からもさらなる進歩です。信頼性と安定性をもつGeniXプラットフォームの慣習を維持し、標準で3年保証を付与しています。

新しいプラットフォームは、改善した光子密度のFOX 3D多層膜光学の新しいデザインに、より高輝度のX線源に取り入れています。独自の単一反射光のコンセプトは、X線ビームの特性(発散、スポットサイズ)を与えるために、最高に有益なフラックスを与えます。

扱いやすいスマートなデザイン

Xenocs社は、これまでの限界を超えた独自の新型単一反射光学設計技術をもって2002年に市場へ参入しました。この単一反射光のコンセプトは、従来のMontel設計と比較して大幅なフラックス利得が得られました。この技術によるFOX2D製品の導入でXenocs社は多彩なソリューションを提案しています。

直観的なX/Y調整台により、X線ビーム性能の微調整は下流のコンポーネントを再調整なしに、いつでも達成可能です。

GeniX 3Dは、高いソース寿命を維持し、素人でも操作可能な直観的な制御・命令ユニットが提供されます。

幅広い用途に利用可能

高いレベルの性能をもつGeniX 3Dは、手のかからないシステムで、近代的な微小焦点X線装置を用いることでギャップを狭くしています。様々な研究に対して異なるX線ビーム波長と形状が利用でき、計測用途として単結晶回折、X線小角散乱、歪測定、半導体フィルムの測定に利用できます。

製品範囲

製品の詳細を確認するためには、このページをご覧ください。あるいは用途に適切な製品を見つけるためにアプリケーションとお客様の声をご覧ください。

高フラックスソリューション

型番 焦点サイズ(mm) 広がり角(mrad) フラックス
(ph/sec)
主用途
GeniX 3D Cu High Flux < 190 6 >400 x 106 タンパク質結晶
微小歪解析
粉末回折
GeniX 3D Mo High Flux < 130 5 >25 x 106 小分子結晶
高圧縮
GeniX 3D Cr High Flux < 190 6 >300 x 106 歪解析

小スポットソリューション

型番 焦点サイズ(mm) 広がり角(mrad) フラックス
(ph/sec)
主用途
GeniX 3D Cr
Micro Spot
< 30 17 >12 x 106 圧力解析
マイクロ蛍光X線分析マイクロX線回折
GeniX 3D Cu
Micro Spot
< 30 17 >18 x 106 圧力解析
マイクロ蛍光X線分析マイクロX線回折

GeniX 3D Cu
High Convergence

60 70 x 35 >400 x 106 高速X線反射率測定
散乱X線反射率測定
マイクロ蛍光X線分析薄膜上の微小回折

コリメートソリューション

型番 焦点サイズ(mm) 広がり角(mrad) フラックス
(ph/sec)
主用途
GeniX 3D Cu Ultra
Low Divergence
1000x1500@出力鏡 0.4 >100 x 106 X線小角散乱
高分解X線回折
GeniX 3D Cu Ultra
Low Divergence
750x1200@出力鏡 <0.4 >5 x 106 X線小角散乱
高分解X線回折

詳細はメーカXenocs社をご覧ください。Xenocs社のHPへ

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